COMPOSTI SILICIOORGANICI . . . . . . . . . . .. . . . . . . x
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COMPOSTI SILICIOORGANICI . . . . . . . . . . .. . . . . . . x
COMPOSTI SILICIOORGANICI Configurazione elettronica degli elementi del gruppo 14 (Si, Ge, Sn, Pb) s d p M . .. . [RMF4]- . [R2MF3]- . .. . .. . . . . xx . . . . MR4 [R3M. 2D]+ [R2MF4]2- sp3 . sp3d . sp3d xx sp3d x x x . x. [RSiF4]- [R2SiF4]2- sp3d2 A questo gruppo appartengono importanti prodotti industriali SILICONI Composti stagnoorganici (stabilizzanti per plastiche e fungicidi per la protezione dei raccolti) Piomboalchili (antidetonanti) I composti organici degli elementi di questo gruppo sono caratterizzati da: minore polarità del legame C-E configurazione dell'ottetto in ER4 i composti ER4 sono generalmente stabili all'acqua e spesso anche all'aria "organometallici soft" CARATTERISTICHE GENERALI dei composti Silicioorganici Stabilità termica: elevata Me4Si si decompone solo sopra i 700°C Ph4Si si distilla a 430°C all'aria, senza decomposizione energia di legame C-Si: 318 kJ/mole (C-C: 334 kJ/mole) scissione omolitica difficile scissione eterolitica difficile La scissione eterolitica può essere effettuata per attacco di un elettrofilo sul carbonio o per attacco di un nucleofilo sul silicio La reattività decresce nell'ordine: E+ su C arilico > Nu- su Si legato a C arilico > E+ su C alchilico > Nu- su Si legato a C alchilico reazioni che non coinvolgono il legame C-Si R3Si come gruppo protettore 1 PREPARAZIONE 1. processo Rochow-Müller Metallo + alogenuro organico (sintesi diretta) 2 RCl + Si/Cu 2. ∆ R2SiCl2 + altri prodotti Metalloorganico + cloruro di silicio o organoclorosilani (metatesi) SiCl4 + 4 RLi R4Si + 4 LiCl R3R'Si + MgXCl 2 R2SiH2 + LiCl + AlCl3 R3SiCl + R'MgX 2 R2SiCl2 + LiAlH4 3. (R = arile, alchile) Idrosililazione processo Speier HSiCl3 + RCH=CH2 cat. RCH2CH2SiCl3 cat. = acido esacloroplatinico, H2PtCl6 SILANOLI e SILICONI Organoslilanoli e siliconi si preparano per idrolisi degli organoclorosilani RnSiCl4-n esempio: 2 Me3SiCl RnSi(OH)4-n H2O HCl driving force 2 Me3SiOH condensazione H2O Me3Si-O-SiMe3 elevata energia di legame (ESi-Cl=381 kJ/mole, ESi-O=452 kJ/mole) entalpia di solvatazione di H+ e Cl- n Me2SiCl2 H2O HCl n Me2Si(OH)2 (Me2SiO)n H2O poliSILICOchetONI Il fatto che R2Si=O non esista come monomero (a differenza di R2C=O) è dovuto alla debolezza del legame π Si-O 2 Preparazione industriale dei monomeri RX + Si MeCl + Si/Cu 300°C MenSiCl4-n 9 : 1 circa i prodotti sono separabili per distillazione frazionata e svolgono ruoli diversi nella polimerizzazione a siliconi Alla miscela di reazione si aggiungono: 250-550°C Cu RnSiX4-n Me2SiCl2 (p.e.70.0°C) 30-80% MeSiCl3 (p.e.66.0°C) 10-40% Me3SiCl (p.e.57.7°C) MeSiHCl2 (p.e.40.7°C) HSiCl3 (p.e.31.8°C) SiCl4 (p.e. 57.6°C) Cu (come Cu2O) Ca, Mg, Zn, Al "promotori": As, Sb, Bi 5-10% 0.1-1% 0.001-0.005% la composizione della miscela di prodotti dipende da molti fattori: ¾granularità e purezza del Si ¾ presenza, proporzione e natura del catalizzatore e dei promotori ¾ temperatura ¾ trattamento preliminare della massa di contatto ¾ tempo di contatto ¾ presenza di gas inerti, ecc. Meccanismo: si assume la formazione di siliciuro di rame, con polarizzazione δ- del Si, che favorisce l'attacco elettrofilo al Si. Nel 1985 è stato dimostrato che l'attacco di MeCl avviene sulla fase η3-CuSi δ+ δ+ δCl Me Me .. ... δ- δ+ δ- δ+ ...δ-.. δ+ δ- δ+ δSi Cu Si Cu Si Cu Si Cu Si δ- Cl + Si Cu Cl- Me Me ClSi + Cu Si fatti sperimentali la superficie del Si è ossidata da CuCl (formato da Cu e MeCl) si forma come intermedio MeCu MeCu Me. + Cu probabile meccanismo: MeCl + Cu CuCl + Si MeCuCl Cu + [Si-Cl] [Si-Cl] + Me. 1/2 Me2SiCl2 Me. + CuCl 3 Me2SiCl2 ca.80% MeHSiCl2 3% MeSiCl3 8% SiCl4 1% Me3SiCl 3% Me Me O Si O O Si O Me O disilano 5% Me O Si Me O O Si O Me O termine della catena formazione della catena ramificazione cross-linking a seconda della struttura dello scheletro silossanico, si ottengono olii di silicone, elastomeri di silicone o resine di silicone. Vantaggi dei siliconi: ¾ elevata stabilità termica ¾ resistenza alla corrosione ¾ coefficienti di viscosità piccoli ¾ proprietà dielettriche favorevoli ¾ azione idrorepellente ¾ azione di sppressione delle schiume ¾ composti fisiologicamente innocui (chirurgia plastica, medicinali) Le proprietà dei siliconi sono dovute alle caratteristiche del legame Si-O-Si. L’elevata flessibilità delle catene (-Me2SiO-)n è dovuta a basse barriere per le variazioni conformazionali. E CH3 H3C C barriera rotazionale E CH 3 CH3 kJ/mole ° d(E-C), A Si 18 7 154 188 Ge Sn 1.5 0 194 216 Pb 230 La flessibilità è indicata anche dalla bassa energia di bending del legame Si-O-Si ° 163 A Me3Si O SiMe3 α = 148° Me3 Si O SiMe3 Me3Si O SiMe3 1 kJ/mole α = 180° Gli olii di silicone sono lubrificanti adatti per ampi intervalli di temperatura, a causa del basso coefficiente di viscosità, dovuto a due effetti contrastanti: le catene di silossano (Si-O-Si) tendono a formare spirali stabilizzate da interazioni intramolecolari dei segmenti polari Si-O. a temperature elevate, quando le spirali si rompono, aumentano le interazioni intermolecolari delle catene lineari di polisilossano. Gli effetti interfase dei siliconi si basano sulla polarità dei ponti Si-O-si e sulla natura idrofoba dei gruppi alchilici legati al Si. Applicazioni tecnologiche: fibre tessili impermeabili; manifattura di pneumatici 4 REATTIVITA' DEI COMPOSTI SILICIOORGANICI δ+ δ− R3Si-CR'3 Elettronegatività: Li 1.00, Mg 1.31, Si 1.90, C 2.55 Il legame Si-X viene scisso facilmente (CH3)3SiCl + RO (CH3)3C-Cl + RO Invece, con il C: - (CH3)3Si-OR + Cl \\ (CH3)3C-OR + Cl - - CH2=C(CH3)3 + ROH + Cl - Il legame C-Si di gruppi alchilici saturi non è molto reattivo I processi sintetici basati su organosilani riguardano allil e alchenil silani Lo schema della reattività comporta attacco al doppio legame da parte di un carbonio elettrofilo l'attacco sugli alchenilsilani avviene sul C α al Si e dà sostituzione del Si sostituente ad opera dell'elettrofilo C δ+ C H C R3 Si CHR H C + CHR R3 Si C C CHR H l'attacco sugli allilsilani avviene sul C γ al Si e dà sostituzione del Si sostituente con spostamento del doppio legame δ+ C ....... CH2 CH CH2SiR3 + C CH2 CH CH2-SiR3 C CH2 CH CH2 l'influenza fondamentale sullo schema di reattività in entrambi i casi è la elevata stabilizzazione ad opera del Si del carbocatione sul C β 5 Effetto β la carica positiva in β ad un atomo di Si è molto stabilizzata (coniugazione p-σ). + C X σ Si X C p Si (X = CR2, NR, O) IPERCONIUGAZIONE X Il Si stabilizza una carica positiva in β + C Si + Si X + C + X Si C C C Si Y - C C C Si Il Si stabilizza una carica negativa in α Y C la carica negativa viene stabilizzata per sovrapposizione della coppia di elettroni su X con l'orbitale antilegante del legame C-Si PREPARAZIONE DI ALCHENILSILANI (VINILSILANI) 1. Addizione stereospecifica ad alchini 1. BuLi R C C H 2. ClSi(CH3)3 H2PtCl6, HSi(CH3)3 (E) R C C Si(CH3)3 H2, Pd avvelenato R H R H Si(CH3)3 H Si(CH3)3 H (Z) 6 2. Reazione di Shapiro O H H H2N-NHX X = SO2Ar Li+ - X N Li+ N X N 2 BuLi N N - Li+ N - LiX H2O - Li + Si(CH3)3 ClSi(CH3)3 N2 3. β-Eliminazione O CH3 H3 C t-BuLi H3C Si CH2 Si CH3 H3C CH3 Li+ CH3 C H3C H R H3C Si CH Si CH3 H3C CH3 H3C H3C Si CH CH R H3 C + O CH3 CH H3C H3C Si CH Si CH3 H3C CH3 R LiOSi(CH3)3 REATTIVITA’ DEGLI ALCHENILSILANI H3C C C β α CH3 CH3 Si Nu- H3C E+ +C CH3 CH3 Si C E CH3 H3C Si CH3 C Nu C- Nu- C E E+ H3C C Nu esempi: + NuSi(CH3)3 CH3 Si CH3 C E O O Si(CH3)3 + O C CF3CO2H OH N CH2 CH2 CH CH Si(CH3)3 Cl C AlCl3 C R R E+ O +N CH2 CH2 CH CH Si(CH3)3 O N 91% 7 PREPARAZIONE DI OSSACICLOPROPANI SILIL SOSTITUITI 1. Da alchenilsilani H R Si(CH3)3 C C H ArCO3H 0°C O C H C R H Si(CH3)3 REATTIVITA’ DI OSSACICLOPROPANI SILIL SOSTITUITI E+ E .. O O Si(CH3)3 .. Si(CH3)3 C C C C Nu Nu esempi: O C O C R C C H C Si(CH3)3 H2O R C H H+ R O Si(CH3)3 H2O H+ R O C O C C H H C OH Si(CH3)3 C OH2 + Si(CH3)3 O 1. H-AlCl2 ArCO3H 2. H2O Si(CH3)3 Si(CH3)3 O R C H O R O Si(CH3)3 C C R OH2 + H+ H O Si(CH3)3 H+ C R + H H O Si(CH3)3 H C OH Si(CH3)3 OH CrO3 H2SO4 O 67% 8 Olefinazione di Peterson HO Si(CH3)3 HO Si(CH3)3 + H+ C oppure base Si(CH3)3 ArCO H 3 C H H C R O H C R H HO KH K+ - O eliminazione C H sin R Si(CH3)3 H R eliminazione anti Si(CH3)3 R C 94% H H R C H C R Si(CH3)3 ArCO H 3 C H R O C C H H+ C C C R H + H H O H C R HO Si(CH3)3 1. R2CuLi 2. H2O HO R C R C 93% R C H + H H O H H C H R R R H+ +H H O Si(CH3)3 C H C R R R C H Si(CH3)3 C H C H Si(CH3)3 H HO Si(CH3)3 1. R2CuLi 2. H2O C C C R H C C R H C Si(CH3)3 H R Si(CH3)3 H R KH Si(CH3)3 H R H +H H O eliminazione C R anti H C R K+ - O R C R Si(CH3)3 H R eliminazione sin 98% 96% H C H Si(CH3)3 H C R C H H H C R C R 9 Reazioni di formazione di legami C-C Gli elettrofili più utili dal punto di vista sintetico sono: composti carbonilici, ioni imminio, alcheni elettrofili reattività nucleofila degli allilsilani: indotta da F- R H2C CH CH2 Si F R R CH2=CHCH2-SiR3 + F Gli alchenilsilani richiedono elettrofili forti ed acidi di Lewis come catalizzatori CH3 O R CH CH Si CH3 + C R CH3 O R CH CH C R AlCl3 o SnCl4 Cl O R CH CH C H TiCl4 R CH CH Si(CH3)3 + Cl2CHOCH3 Gli allilsilani richiedono elettrofili acidi di Lewis come catalizzatori O C Cl + CH CH CH Si(CH ) 3 3 2 2 CH2 CH CH2 Si(CH3)3 + R2C=O TiCl4 o BF3 O C AlCl3 CH2 CH CH2 R CH2 CH R C CH2 OH L'acido di Lewis attiva il carbonile; un nucleofilo assiste nella desililazione R R C O R R C OMXn-1 H2C CH2 CH CH2 SiR3 ... .. . H + R3SiNu + X - CH2 Nu LA+.. ... .. O .. C .. .. .. R LA = acido di Lewis H C H .. H .. SiR3 10 Sia l’isomero E che quello Z del 2-butenil(trimetil)silano reagisce con le aldeidi per dare un prodotto in cui il gruppo OH che si forma è in sin rispetto al metile L'avvicinamento dell'allilsilano avviene in modo da minimizzare le interazioni steriche H3C H H (E) CH2Si(CH3)3 H H H3C O LA H H3C CH2SiR3 R HO stato di transizione preferito per l'allilsilano E H3C O LA H CH3 CH2 O LA H R CH2SiR3 H H CH2Si(CH3)3 (Z) H H R H R H3C stato di transizione destabilizzato per l'allilsilano E H H H H R H CH2SiR3 HO H H CH3 H CH2 O LA H R CH3 CH2SiR3 stato di transizione destabilizzato per l'allilsilano E stato di transizione preferito per l'allilsilano Z CH3 H CH3 CH3 TiCl4 CH + CH2=CHCH2Si(CH3)3 + OH O OH 1.6 : 1 86% elettrofili al C si possono generare dagli acetali: R2C(OMe)2 + CH2 CH CH2 Si(CH3)3 (CH3)3SiI + R2C-OMe + CH2 CH CH2 Si(CH3)3 I- R R C CH2 CH OMe CH2 La reazione di allilsilani con aldeidi e chetoni si può indurre con ione fluoruro, attraverso un addotto pentavalente: O CH2 CH CH2 Si(CH3)3 + F- F CH2 CH CH2 Si CH3 H3C H3C C H3C CH CH2 Si(CH3)3 + - C O R C H OH R CH CH2 CH CH2 CH3 Bu4N+F- H O H3C 2 C H3C CH CH2 C OH 87% 11 La desililazione indotta da fluoruro è stata usata anche per reazioni di chiusura d’anello H CH2 O H CH2 HOH Bu4N+F- CH2 C CH2Si(CH3)3 SO2Ph H 94% SO2Ph Gli allilsilani funzionano da nucleofili con composti carbonilici α,β-insaturi in presenza di acidi di Lewis come TiCl4 oppure in presenza di F-: TiCl4 + CH2 CH CH2 Si(CH3)3 O -78°C CO2Et + O CH2CH=CH2 CO2Et F- CH2 CH CH2 Si(CH3)3 85% esempi di reazioni degli allilsilani con composti carbonilici e acilici O H C H3C Cl C CH2 Si(CH3)3 TiCl4 CH2 Si(CH3)3 O H3C C CH2 O C Cl AlCl3, 90°C CH3 Si(CH3)3 + CH3 CH2 CH2 CH O CH CH2 C CH3 O 50% (1984) 82% (1986) OH CH CH2 CH2 CH3 78% (1983) O O CH H2C CH CH2 Si(CH3)3 + O OCH3 O BF3 OH H2C CH CH2CH O O OCH3 O 80% (1980) 12 con acetali O HC O H2C CH CH2 Si(CH3)3 + 3 H3C O AcO CH2 H2C CH CH2 Si(CH3)3 + Ac O Ac O ZnBr2 AcO CH2 OAc 4°C Ac O O Ac MeCN O CH2 OCH3 CH3 O CH2 Me3SiO3SCF3 99% (1986) O 81% CH2 (1985) Ac O H2C CH O OAc O H3C BF3 O O H2C CH CH2 CH3 Ac O O CH2 CH2 O O H2C CH CH2 Si(CH3)3 + CH2 O O CH2 O O CH2 O OAc O CH2 CH2 CH CH2 87% (1984) Con composti carbonilici α,β-insaturi O CH CH C CH3 H3C C H3C + H2C CH CH2 Si(CH3)3 O CH C CH3 + H2C CH CH2 Si(CH3)3 O C CH3 + H2C CH CH2 Si(CH3)3 O TiCl4 + H2C CH CH2 Si(CH3)3 C CH3 80% (1984) O CH3 H2C CH CH2 C CH2 C CH3 CH3 87% C (1986) CH3 CH2 CH CH2 (1983) O O H TiCl4 TiCl4 CH CH2 O CH2 CH CH2 C CH3 TiCl4 H2C CH CH2 CH CH3 89% (1980) 13 O H3C FC CH C O CH2CH3 + H2C CH CH2 Si(CH3)3 CH3 O C CH2 C O CH2CH3 CH2 CH CH2 47% (1986) O EtAlCl2 CH2 CH2 CH CH CH2 Si(CH3)3 CH3 O CH CH2 0°C miscela di stereoisomeri 2:1 90% (1985) 14